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此镜头是半导体检测中的核心部件之一，由多块镜片组成，用于将掩模上的图案按比例缩小并投影到硅片上。光刻机物镜的设计和制造是一项复杂的系统工程，涉及光学、机械、电子和软件等多个领域的技术。镜头在满足高曝光分辨率的基础上可以减少透镜数量和非球面镜的数量，降低光刻投影物镜的设计成本及制造周期，提高产品市场竞争力；同时，通过正、负相间的光焦度组合，提高光刻投影物镜的像质校正能力，进而提高曝光成像质量，实现更小的曝光分辨率和CDU（线条均匀性），以保证成像的准确性和稳定性。
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