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193nm 极紫外激光薄膜
发布时间 :2026-04-10
访问数量 :

光学特性：T＞97%@193nm；R＞98%@193nm （石英）； T＞99%@193nm；R＞97%@193nm （ CaF2 ）。

 应用场景：22nm光刻机、ArF激光器等。 

技术优势：自研设备；从理论和实践上解决了长期使用过程中光谱特性降低的致命缺陷

image.png

  吸气剂
  266nm 深紫外激光薄膜
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