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发布时间 :2026-04-10
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镀膜工艺:金属 Hf,电子束蒸发;

基  板:JGS1/7979/7980;Φ50.8×8mm;

光  谱:垂直入射

T>70%@250-270nm;T<1%@280-650nm

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CN / EN
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